Pumpen und Düsen für die Halbleiterindustrie
Präzise Chemikalienförderung für Wafer-Prozesse
Die Halbleiterfertigung verlangt absolute Präzision bei Pumpentechnik und Chemikalien-Handling. Kontaminationsfreiheit, chemische Beständigkeit gegen aggressive Prozesschemikalien und reproduzierbare Prozessparameter sind entscheidend für fehlerfreie Chip-Produktion.
Anforderung
Prozess-Herausforderungen in der Halbleiterindustrie
Halbleiterfertigung arbeitet mit hochaggressiven Chemikalien, strengsten Reinheitsanforderungen und nanometer-präzisen Prozessen. Jede Partikelkontamination führt zu Wafer-Ausschuss und Ertragsverlusten.
Hochreinheit und Partikelfreiheit
Prozesschemikalien dürfen keine Partikel oder Ionen einbringen. Alle fluidführenden Bauteile müssen aus hochreinen Materialien bestehen und Partikelbildung verhindern.
Extreme Chemikalienbeständigkeit
Halbleiterprozesse nutzen hochaggressive Chemikalien: Flusssäure, Schwefelsäure-Peroxid-Gemische, konzentrierte Laugen, organische Lösemittel. Pumpen müssen universelle Chemikalienbeständigkeit bieten.
Reproduzierbare Förderung
Ätzprozesse erfordern exakte Durchflussmengen und konstante Drücke. Schwankungen führen zu ungleichmäßiger Strukturierung und Ausschuss.
ATEX-Konformität
Viele Prozesse arbeiten mit brennbaren Lösemitteln wie Isopropanol, Aceton oder Photoresist-Lösungen. Pumpen müssen explosionsgeschützt sein.
Minimale Wartung
Produktionslinien laufen 24/7. Ungeplante Stillstände bedeuten massive Produktionsverluste. Pumpen müssen wartungsarm und hochverfügbar sein.
Temperaturstabilität
Viele Prozesschemikalien werden temperiert gefördert. Pumpen müssen Temperaturen von -20 °C bis +95 °C bewältigen, ohne Reinheit zu beeinträchtigen.
Ersatzteilversorgung
FTI Ersatzteile sind über K & W FlowSystems kurzfristig verfügbar. Für kritische Anlagen empfehlen wir einen abgestimmten Ersatzteilbestand auf Lager.
Schulungen
Fundierte Trainings aus der Praxis für maximale Ausfallsicherheit im Betrieb. Ihre Mitarbeiter lernen Bedienung, Wartung und Fehlerdiagnose. Schulungen vor Ort oder in unseren Räumlichkeiten möglich.
Inbetriebnahme
Gerne begleiten wir Sie von der Auslegung bis zur Inbetriebnahme. Auch bei bestehenden Anlagen helfen wir, Probleme zu lösen, bevor ein kompletter Austausch notwendig wird.
Systemintegration
Wir kombinieren DEBEM Pumpen mit passenden Systemkomponenten zu funktionierenden Gesamtsystemen. Dazu gehören Filterregler zur präzisen Fördermengeneinstellung, Pulsationsdämpfer für gleichmäßigen Förderstrom, Durchflussmesser, Druckregler und Steuerungen. Von der Rohrleitungsplanung bis zur Anlagenintegration begleiten wir Ihr Projekt.
Technische Beratung und Auslegung
Unsere Techniker analysieren Ihre Prozessparameter und legen die optimale Pumpenkonfiguration aus. Wir berücksichtigen Fördermedium, Betriebspunkt, Temperatur, Viskosität und chemische Beständigkeit. Sie erhalten eine fundierte Empfehlung zu Modell, Werkstoffausführung und Motorleistung.
LÖsungen
Systemkompetenz für Fertigungsprozesse
K & W FlowSystems plant und liefert nicht nur Einzelkomponenten, sondern komplette Pumpensysteme für Halbleiterprozesse. Wir kombinieren hochreine Pumpen mit Sprühdüsen und sonstigem Zubehör zu Gesamtlösungen.
Prozessverständnis
Unsere Techniker kennen die Anforderungen der Wafer-Fertigung. Wir beraten Sie bei der Auslegung und dimensionieren Pumpen exakt auf Ihre Prozessparameter: Chemikalie, Fördermenge, Druck, Temperatur.
Materialauswahl
Wir wählen hochreine Materialien: PTFE, PVDF für universelle Chemikalienbeständigkeit und Partikelfreiheit.
ATEX-Kompetenz
Für explosionsgefährdete Bereiche liefern wir ATEX-zertifizierte Pumpen für sichere Lösemittelförderung.
Ersatzteilversorgung
FTI Ersatzteile sind über K & W FlowSystems kurzfristig verfügbar. Für kritische Anlagen empfehlen wir einen abgestimmten Ersatzteilbestand auf Lager.
Schulungen
Fundierte Trainings aus der Praxis für maximale Ausfallsicherheit im Betrieb. Ihre Mitarbeiter lernen Bedienung, Wartung und Fehlerdiagnose. Schulungen vor Ort oder in unseren Räumlichkeiten möglich.
Inbetriebnahme
Gerne begleiten wir Sie von der Auslegung bis zur Inbetriebnahme. Auch bei bestehenden Anlagen helfen wir, Probleme zu lösen, bevor ein kompletter Austausch notwendig wird.
Systemintegration
Wir kombinieren DEBEM Pumpen mit passenden Systemkomponenten zu funktionierenden Gesamtsystemen. Dazu gehören Filterregler zur präzisen Fördermengeneinstellung, Pulsationsdämpfer für gleichmäßigen Förderstrom, Durchflussmesser, Druckregler und Steuerungen. Von der Rohrleitungsplanung bis zur Anlagenintegration begleiten wir Ihr Projekt.
Technische Beratung und Auslegung
Unsere Techniker analysieren Ihre Prozessparameter und legen die optimale Pumpenkonfiguration aus. Wir berücksichtigen Fördermedium, Betriebspunkt, Temperatur, Viskosität und chemische Beständigkeit. Sie erhalten eine fundierte Empfehlung zu Modell, Werkstoffausführung und Motorleistung.
Anwendungsfälle
Typische Anwendungen in der Halbleiterindustrie
Wafer-Reinigung und Ätzprozesse
RCA-Reinigung
Membranpumpen fördern SC1 (NH4OH/H2O2/H2O) und SC2 (HCl/H2O2/H2O) Lösungen für zweistufige Wafer-Reinigung.
Piranha-Reinigung
Schwefelsäure-Peroxid-Gemische entfernen organische Kontaminationen. PVDF-Pumpen widerstehen diesem hochaggressiven Medium.
Flusssäure-Ätzung
HF-Lösungen entfernen Oxidschichten. PTFE-Ausführung für universelle Beständigkeit.
Nassätzen
Phosphorsäure, Salpetersäure und andere Ätzchemikalien werden präzise dosiert und gefördert.
Photoresist-Handling und Lackierung
Resist-Versorgung
Membranpumpen fördern Photoresists schonend und reproduzierbar zu Spin-Coating-Anlagen.
Resist-Stripping
Lösemittel und Stripper-Chemikalien entfernen Photoresist nach Belichtung und Entwicklung.
Spin-Coating
Sprühdüsen applizieren Resist gleichmäßig auf Wafer-Oberflächen.
CMP-Prozesse (Chemical Mechanical Polishing)
Slurry-Transfer
Membranpumpen fördern CMP-Slurries mit abrasiven Partikeln zu Polieranlagen.
Slurry-Umwälzung
Kreiselpumpen halten Suspensionen homogen und verhindern Sedimentation.
Abwasser-Handling
CMP-Abwässer mit Partikeln werden zu Aufbereitungsanlagen gefördert.
Chemikalien-Versorgung und Zirkulation
Chemikalien-Delivery-Systeme
Membranpumpen transportieren Prozesschemikalien von Vorratsbehältern zu Point-of-Use-Systemen.
Temperierte Zirkulation
Kreiselpumpen fördern temperierte Chemikalien im Kreislauf für konstante Prozesstemperaturen.
Batch-Mixing
Präzise Dosierung verschiedener Chemikalien für Mischprozesse.
Abwasserbehandlung und Recycling
Chemikalien-Abwasser
Membranpumpen fördern verbrauchte Prozesschemikalien zu Neutralisations- und Aufbereitungsanlagen.
Partikelhaltige Abwässer
CMP-Abwässer und andere suspensionshaltige Medien werden zu Filtrationssystemen transportiert.
Lösemittel-Rückgewinnung
ATEX-Pumpen fördern Lösemittel zu Destillations- und Recycling-Anlagen.
Produktübersicht
Unser Produktportfolio im Überblick
Spritzdüsen für Wafer-Prozesse
Unsere Spritzdüsen applizieren Prozesschemikalien, Reinigungsmedien und Spülwasser präzise auf Wafer-Oberflächen. Sie kommen bei Wafer-Reinigung, Resist-Stripping und Oberflächenbehandlung zum Einsatz.
Vollkegeldüsen
Erzeugen ein kegelförmiges Sprühbild für gleichmäßige Benetzung von Wafer-Oberflächen bei Spin-Coating oder Reinigungsprozessen.
Flachstrahldüsen
Erzeugen fächerförmige Sprühbilder für gezielte Applikation bei Single-Wafer-Reinigung.
Hochreine Ausführung
In PVDF oder PFA für Partikelfreiheit und universelle Chemikalienbeständigkeit.
Präzise Sprühbilder
Reproduzierbare Tröpfchengrößen und Durchflussmengen für gleichmäßige Prozessergebnisse.
Druckluftmembranpumpen für den Chemikalientransfer
Unsere Druckluft-Membranpumpen fördern Prozesschemikalien, Lösemittel und Abwässer absolut leckagefrei. Das Funktionsprinzip trennt Medium und Antrieb durch flexible Membranen vollständig.
Chemikalienbeständige Ausführung
Alle medienberührenden Teile werden von K&W auf ihre Beständigkeit gegen Ihre spezifischen Chemikalien hin ausgewählt. PVDF oder PP für die meisten Halbleiterchemikalien.
Selbstansaugend bis 5 Meter
Unsere AODD Pumpen saugen Chemikalien selbstständig an, ohne Vorfüllung oder externe Ansaughilfe.
Förderung viskoser Medien
Photoresists, CMP-Slurries und viskose Ätzchemikalien mit Viskositäten bis 50.000 cP werden problemlos gefördert.
Feststoffförderung
Partikel und Suspensionen bis 3 mm Korngröße passieren die Pumpe ohne Verstopfung. Wichtig bei CMP-Abwasser und Slurry-Transfer.
Druckluftbetrieb
Keine elektrischen Komponenten, keine Zündquellen. Ideal für Lösemittelbereiche.
Leckagefreier Betrieb
Keine mechanische Dichtung, kein Kontaminationsrisiko durch Leckagen.
Druckluftmembranpumpen ATEX für explosionsgefährdete Bereiche
Unsere ATEX-Membranpumpen fördern Lösemittel, Photoresists und brennbare Prozesschemikalien sicher in explosionsgefährdeten Bereichen.
ATEX-Zertifizierung
Konformität nach ATEX-Richtlinie 2014/34/EU für Zone 1 und Zone 2.
Leitfähige Ausführung
Alle Kunststoffteile sind elektrisch leitfähig, um elektrostatische Aufladung zu vermeiden.
Funkenlöschende Membranen
Spezielle Membranwerkstoffe verhindern mechanische Funkenbildung.
Einsatz
Isopropanol-Förderung, Photoresist-Transfer, Lösemittel-Handling in Ex-Bereichen.
Kreiselpumpen Kunststoff für kontinuierliche Förderung
Unsere Kunststoff-Kreiselpumpen fördern Prozesschemikalien kontinuierlich und pulsationsfrei. Sie eignen sich für Umwälzung, Filtration und Chemikalien-Zirkulation.
Magnetgekuppelte Ausführung
Keine Wellendichtung, kein Leckagerisiko. Motor und Pumpe sind durch eine Magnetkupplung getrennt.
5 Jahre Garantie
Wir bieten auf unsere Kunststoff-Kreiselpumpen eine der längsten Garantien am Markt bei industriellem 24/7-Betrieb.
Trockenlaufsicher
Bei richtiger Materialpaarung können die Pumpen längere Zeit ohne Medium laufen, ohne Schaden zu nehmen.
Kunststoffwerkstoffe
PVDF oder PP für universelle Chemikalienbeständigkeit gegen Säuren, Laugen, Oxidationsmittel und Lösemittel.
Magnetgekuppelte Kreiselpumpen Kunststoff für ATEX-Bereiche
Unsere Kunststoff-Kreiselpumpen sind auch in ATEX-zertifizierter Ausführung erhältlich für kontinuierliche Förderung brennbarer Chemikalien in Ex-Bereichen.
ATEX-konforme Elektromotoren
Zertifizierte Ex-Motoren für Zone 1 und Zone 2.
Funkenfreie Konstruktion
Magnetkupplung eliminiert mechanische Funkenerzeugung.
Temperaturüberwachung
Integrierte Sensoren verhindern unzulässige Erwärmung.
Einsatz
Lösemittel-Zirkulation, Resist-Umwälzung, brennbare Chemikalien in Ex-Zonen.
Hochdruckaggregate für Wafer-Reinigung
Hochdruckaggregate liefern die nötige Leistung für Hochdruck-Wafer-Reinigung und Oberflächenvorbereitung.
Premium-Qualität
Hochdruckpumpen für höchste Standzeiten und minimalen Wartungsaufwand. Ideal für professionelle Dauerbetriebsanwendungen.
Komplettsysteme
K&W liefert fertig montierte Hochdruckreiniger mit Pumpe, Motor, Steuerung und Zubehör.
Hochdruckzubehör für Halbleiter-Reinigung
Wir liefern Hochdruckschläuche, Schlauchaufroller, Pistolen, Lanzen und Schnellkupplungen für Reinigungsarbeiten in Halbleiterumgebungen.
Chemikalienbeständige Schläuche
PTFE-Innenschläuche für aggressive Reinigungschemikalien.
Nicht das gefunden, was Sie suchen?
Wir helfen Ihnen gerne weiter.
Materialauswahl
Verschleißfeste und chemikalienbeständige Werkstoffe
Die Wahl des richtigen Werkstoffs ist entscheidend für Standzeit und Betriebssicherheit. K & W FlowSystems berät Sie bei der Materialauswahl.
Services
Technische Unterstützung von K & W FlowSystems
Systemauslegung
Wir dimensionieren Pumpen und Düsen exakt auf Ihre Prozessparameter: Chemikalie, Fördermenge, Druck, Temperatur, Viskosität.
Materialberatung
Wir wählen die passenden hochreinen Werkstoffe für Ihre Halbleiterchemikalien, prüfen die Beständigkeit und garantieren Partikelfreiheit.
Chemikalien-Kompatibilität
Wir verfügen über umfassende Beständigkeitstabellen für alle gängigen Halbleiterchemikalien und beraten Sie bei der Materialauswahl.
Schulung
Wir schulen Ihre Mitarbeiter in Bedienung, Wartung und sicherer Handhabung der installierten Systeme.
Ersatzteilversorgung
Verschleißteile wie Membranen, Ventilkugeln und Dichtungen halten wir lagernd vor oder haben kurze Lieferzeiten.
FAQ
